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光学盖膜
ESTEE盖膜是一种高洁净度的光学级保护薄膜，适用于半导体芯片划片与解理工艺中的表面保护。产品具有优异的透光性和柔韧性，可在加工过程中覆盖晶圆或芯片正面，减少微颗粒污染和机械损伤，提升芯片加工良率。同时，在芯片运输与存储过程中亦可提供可靠的表面保护，避免划伤与污染。其无粘性设计使盖膜在工艺完成后可轻松剥离，不产生残留，确保器件表面洁净与性能稳定。
关键词：
UV切割专用胶带
分类：
半导体行业防静电材料
光学盖膜
产品详情
产品描述：
ESTEE盖膜是一种高洁净度的光学级保护薄膜，适用于半导体芯片划片与解理工艺中的表面保护。产品具有优异的透光性和柔韧性，可在加工过程中覆盖晶圆或芯片正面，减少微颗粒污染和机械损伤，提升芯片加工良率。同时，在芯片运输与存储过程中亦可提供可靠的表面保护，避免划伤与污染。其无粘性设计使盖膜在工艺完成后可轻松剥离，不产生残留，确保器件表面洁净与性能稳定。
产品性能参数：
用途：
用于半导体芯片划片与解理工艺中的表面保护。
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